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GTHK-8空心陰極離子源
空心陰極離子源是我公司為滿足廣大用戶對(duì)真空鍍膜沉積的更高要求而開發(fā)的一款新型離子源，具有工作時(shí)間長、發(fā)熱量小、污染小等特點(diǎn);適用于鍍前預(yù)清洗、低溫冷鍍,改善膜層致密度和穩(wěn)定性;廣泛應(yīng)用于手機(jī)、鏡頭、眼鏡片、紅外、激光、光通訊、醫(yī)療、軍工以及科研等行業(yè)。
XNY-ALS陽極膜離子源
公司陽極膜離子源采用模塊化設(shè)計(jì)，可與現(xiàn)有設(shè)備進(jìn)行有限匹配。
XNY-H16霍爾離子源
用于真空鍍膜過程中基底離子轟擊清潔及沉積過程中離子轟擊能量輸送。
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